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一种制备平面缩放倍率超分辨成像透镜的方法

  • 申请号:CN201010617734.6
  • 专利类型:发明专利
  • 申请(专利权)人:中国科学院光电技术研究所
  • 公开(公开)号:CN102096123A
  • 公开(公开)日:2011.06.15
  • 法律状态:实质审查的生效
  • 出售价格: 面议
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专利详情

专利名称 一种制备平面缩放倍率超分辨成像透镜的方法
申请号 CN201010617734.6 专利类型 发明专利
公开(公告)号 CN102096123A 公开(授权)日 2011.06.15
申请(专利权)人 中国科学院光电技术研究所 发明(设计)人 刘凯鹏;罗先刚;王长涛;刘玲;冯沁;赖之安;杨欢
主分类号 G02B3/00(2006.01)I IPC主分类号 G02B3/00(2006.01)I;G02B1/10(2006.01)I
专利有效期 一种制备平面缩放倍率超分辨成像透镜的方法 至一种制备平面缩放倍率超分辨成像透镜的方法 法律状态 实质审查的生效
说明书摘要 一种制备平面缩放倍率超分辨成像透镜的方法,包括:在基片上制备圆形或正方形或长方形的平底凹槽;在基片上沉积一层银膜层,再在银膜层上涂布一层可固化的溶胶层,其中溶胶层在表面张力的作用下会在凹槽位置形成弧面,经加热或紫外光照射后溶胶层固化;依此类推,在基片上交替沉积银膜层和涂布、固化溶胶层,在凹槽位置得到由多层银膜层和溶胶层交替组成的多层弧面膜层,直到将凹槽填平,就得到了物面和像面均为平面的缩放倍率超分辨成像透镜。该平面缩放倍率超分辨成像透镜能够二维缩小或放大成像,可应用于超分辨缩小光刻或放大成像。这解决了当前平面缩放倍率超分辨成像透镜难以制作的难题,在成像和光刻领域拥有巨大的应用潜力。

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