专利详情

专利名称	一种用于点阵式无掩模光刻的曝光帧数据的产生方法
申请号	CN201210268327.8	专利类型	发明专利
公开（公告）号	CN102778819A	公开（授权）日	2012.11.14
申请（专利权）人	中国科学院长春光学精密机械与物理研究所	发明（设计）人	刘伟奇;孟祥翔;郭珍珍;柳华;康玉思;魏忠伦;冯睿
主分类号	G03F7/20(2006.01)I	IPC主分类号	G03F7/20(2006.01)I
专利有效期	一种用于点阵式无掩模光刻的曝光帧数据的产生方法至一种用于点阵式无掩模光刻的曝光帧数据的产生方法	法律状态	实质审查的生效
说明书摘要	一种用于点阵式无掩模光刻的曝光帧数据的产生方法，属于光刻技术领域中涉及的曝光帧数据的产生方法。要解决的技术问题：提供一种用于点阵式无掩模光刻的曝光帧数据的产生方法。技术方案包括图形处理、存储数据；给定时间值、提取行向量；处理行向量、得到曝光帧数据，这三步是在产生整个曝光帧数据的程序流程控制下进行的。本发明利用合理划分曝光位置并与曝光时间相统一，进行一次图形与划分的曝光位置对照，对所有曝光位置赋值“0”或“1”。用一个两页的三维数组存储时间值和对照的赋值，提取相同时间下各聚焦点所在曝光位置的对照赋值组成一帧，随着提取时间值的增大，去掉前段已被提取出时间值的曝光位置，有效提高了帧数据产生的速率。