专利详情

专利名称	用于紫外光刻机的光刻照明系统
申请号	CN201210499556.0	专利类型	发明专利
公开（公告）号	CN102929106A	公开（授权）日	2013.02.13
申请（专利权）人	中国科学院上海光学精密机械研究所	发明（设计）人	陈明;朱菁;杨宝喜;曾爱军;黄惠杰;胡中华;李璟
主分类号	G03F7/20(2006.01)I	IPC主分类号	G03F7/20(2006.01)I;G02B27/09(2006.01)I;G02B27/42(2006.01)I
专利有效期	用于紫外光刻机的光刻照明系统至用于紫外光刻机的光刻照明系统	法律状态	实质审查的生效
说明书摘要	一种用于紫外光刻机的光刻照明系统，包括：紫外激光器、一维连续变倍扩束镜组、衍射光学元件转盘机构、傅里叶变换透镜、匀光系统和控制器，所述的衍射光学元件转盘机构沿圆周均匀地设有多个衍射光学元件。所述的紫外激光器产生平行光束，沿光束传输方向依次是所述的一维连续变倍扩束镜组、转盘机构的衍射光学元件、傅里叶变换透镜和匀光系统。本发明具有系统结构简单、光学透过率高、不存在锥形镜组引入的光瞳劣化问题、能有效降低光刻机的生产成本等特点。