专利详情

专利名称	可光催化净化空气及杀菌的有机基底双层膜及其制法
申请号	CN98103510.8	专利类型	发明专利
公开（公告）号	CN1243029	公开（授权）日	2000.02.02
申请（专利权）人	中国科学院感光化学研究所	发明（设计）人	赵进才;陈锋
主分类号	B01D63/06	IPC主分类号	B01D63/06
专利有效期	可光催化净化空气及杀菌的有机基底双层膜及其制法至可光催化净化空气及杀菌的有机基底双层膜及其制法	法律状态	专利申请权、专利权的转移专利权的转移
说明书摘要	本发明涉及半导体光催化剂技术领域,特别涉及可光催化净化空气及杀菌的有机基底双层膜及其制法。这种有机基底双层膜特征在于在有机物基底上涂抹惰性氧化物涂层, 再在惰性氧化物涂层上涂抹半导体光催化剂涂层。其中惰性氧化物涂层厚度在0.1～100微米,半导体光催化剂涂层厚度为 0.1～100微米。其制法是用旋转涂膜法先制备有机物基底表面惰性氧化物涂层,再在上面用旋转涂膜法涂覆半导体涂层即制得本发明的有机基底双层膜。这种膜能够有效降解表面有机污垢,并对有机物基底没有任何破坏作用。