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基于光场均匀性传递的平行光场强度均匀性的认定方法及系统

  • 申请号:CN200910218491.6
  • 专利类型:发明专利
  • 申请(专利权)人:中国科学院西安光学精密机械研究所
  • 公开(公开)号:CN102042873A
  • 公开(公开)日:2011.05.04
  • 法律状态:实质审查的生效
  • 出售价格: 面议
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专利详情

专利名称 基于光场均匀性传递的平行光场强度均匀性的认定方法及系统
申请号 CN200910218491.6 专利类型 发明专利
公开(公告)号 CN102042873A 公开(授权)日 2011.05.04
申请(专利权)人 中国科学院西安光学精密机械研究所 发明(设计)人 达争尚;刘力;田新锋;李东坚
主分类号 G01J1/42(2006.01)I IPC主分类号 G01J1/42(2006.01)I
专利有效期 基于光场均匀性传递的平行光场强度均匀性的认定方法及系统 至基于光场均匀性传递的平行光场强度均匀性的认定方法及系统 法律状态 实质审查的生效
说明书摘要 一种基于光场均匀性传递的平行光场强度均匀性的认定方法,该方法包括以下步骤:1)校准CCD器件:2)平行光场强度均匀性认定。本发明采用积分球将均匀强度标准传递至CCD,解决了均匀强度基准问题;本发明采用奇异点剔除、“标准块”方法进一步降低了CCD器件电子噪声的影响,保证了基准的精度;本发明采用旋转、平移方式实现了小靶面的CCD对大口径光场均匀性的认定,提高了分辨率;本发明采用以上方法认定的光场均匀性误差是确定的,即选定“标准块”时设定的误差是确定,能够精确测量平行光场的强度。

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