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在Si衬底上制备纤锌矿相MxZn1-xO单晶薄膜的方法

  • 申请号:CN201110119774.2
  • 专利类型:发明专利
  • 申请(专利权)人:中国科学院物理研究所
  • 公开(公开)号:CN102776567A
  • 公开(公开)日:2012.11.14
  • 法律状态:实质审查的生效
  • 出售价格: 面议
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专利详情

专利名称 在Si衬底上制备纤锌矿相MxZn1-xO单晶薄膜的方法
申请号 CN201110119774.2 专利类型 发明专利
公开(公告)号 CN102776567A 公开(授权)日 2012.11.14
申请(专利权)人 中国科学院物理研究所 发明(设计)人 梅增霞;梁会力;梁爽;叶大千;刘章龙;崔秀芝;刘尧平;杜小龙
主分类号 C30B29/22(2006.01)I IPC主分类号 C30B29/22(2006.01)I;C30B25/02(2006.01)I;C30B25/18(2006.01)I;C30B29/16(2006.01)I;C30B29/64(2006.01)I
专利有效期 在Si衬底上制备纤锌矿相MxZn1-xO单晶薄膜的方法 至在Si衬底上制备纤锌矿相MxZn1-xO单晶薄膜的方法 法律状态 实质审查的生效
说明书摘要 本发明提供一种在Si衬底上制备MxZn1-xO(M=Mg,Be)单晶薄膜的方法,包括:在Si衬底表面上沉积Be金属单晶薄膜;氧化Be金属薄膜以获得BeO单晶层;在BeO单晶层上沉积MxZn1-xO单晶薄膜。

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