在Si衬底上制备纤锌矿相MxZn1-xO单晶薄膜的方法
- 申请号:CN201110119774.2
- 专利类型:发明专利
- 申请(专利权)人:中国科学院物理研究所
- 公开(公开)号:CN102776567A
- 公开(公开)日:2012.11.14
- 法律状态:实质审查的生效
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专利详情
专利名称 | 在Si衬底上制备纤锌矿相MxZn1-xO单晶薄膜的方法 | ||
申请号 | CN201110119774.2 | 专利类型 | 发明专利 |
公开(公告)号 | CN102776567A | 公开(授权)日 | 2012.11.14 |
申请(专利权)人 | 中国科学院物理研究所 | 发明(设计)人 | 梅增霞;梁会力;梁爽;叶大千;刘章龙;崔秀芝;刘尧平;杜小龙 |
主分类号 | C30B29/22(2006.01)I | IPC主分类号 | C30B29/22(2006.01)I;C30B25/02(2006.01)I;C30B25/18(2006.01)I;C30B29/16(2006.01)I;C30B29/64(2006.01)I |
专利有效期 | 在Si衬底上制备纤锌矿相MxZn1-xO单晶薄膜的方法 至在Si衬底上制备纤锌矿相MxZn1-xO单晶薄膜的方法 | 法律状态 | 实质审查的生效 |
说明书摘要 | 本发明提供一种在Si衬底上制备MxZn1-xO(M=Mg,Be)单晶薄膜的方法,包括:在Si衬底表面上沉积Be金属单晶薄膜;氧化Be金属薄膜以获得BeO单晶层;在BeO单晶层上沉积MxZn1-xO单晶薄膜。 |
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