专利详情

专利名称	一种离子液体低温电沉积制备Al-Bi合金或电镀Al-Bi合金的方法
申请号	CN201110202920.8	专利类型	发明专利
公开（公告）号	CN102888631A	公开（授权）日	2013.01.23
申请（专利权）人	中国科学院过程工程研究所	发明（设计）人	吕兴梅;刘恋;张锁江;张香平;郑勇;张亲亲
主分类号	C25D3/56(2006.01)I	IPC主分类号	C25D3/56(2006.01)I
专利有效期	一种离子液体低温电沉积制备Al-Bi合金或电镀Al-Bi合金的方法至一种离子液体低温电沉积制备Al-Bi合金或电镀Al-Bi合金的方法	法律状态	实质审查的生效
说明书摘要	本发明涉及一种采用离子液体低温电沉积制备Al-Bi合金或电镀Al-Bi合金的方法，其特征在于采用离子液体与无水三氯化铝的混合物，向其中加入铋盐合成低温电镀液。以处理过的基体为沉积阴极，采用直流电沉积制备Al-Bi合金或电镀Al-Bi合金，合金中铋含量可根据需要进行调整。本发明采用的离子液体种类众多、价格低廉、电导率高、电化学窗口宽、不挥发、环境友好且能有效溶解铋盐。采用离子液体电沉积技术制备Al-Bi合金及其镀层可有效降低电沉积温度和槽电压，大大降低了能耗，同时减缓了对设备的腐蚀，得到的沉积层性能优异，镀层平整且厚度可调，易于控制。