专利详情

专利名称	一种双波段红外成像光学系统
申请号	CN201120201781.2	专利类型	实用新型
公开（公告）号	CN202177748U	公开（授权）日	2012.03.28
申请（专利权）人	中国科学院上海技术物理研究所	发明（设计）人	蹇毅;潘兆鑫;于洋
主分类号	G02B27/00(2006.01)I	IPC主分类号	G02B27/00(2006.01)I;G01J5/08(2006.01)I;G01J5/54(2006.01)I
专利有效期	一种双波段红外成像光学系统至一种双波段红外成像光学系统	法律状态	授权
说明书摘要	本专利公开了一种双波段红外成像光学系统，它主要用于红外焦平面成像系统。本专利提出一种四片式的光学系统，来自无穷远物方的光束依次通过第一透镜，第二透镜，第三透镜，第四透镜，杜瓦窗口，孔径光阑，在像面上成像。系统的孔径光阑与制冷红外探测器杜瓦冷光阑重合。该系统实现了中波红外(MWIR，3-5μm)和长波红外(LWIR，8-12μm)波段在同一个焦平面成像。本系统相对孔径为1∶3，焦距300毫米，视场为8°。本专利结构的主要特点在于：双波段工作，使用常见的红外材料，冷光阑效率100％，且结构简单，易于装配。