专利详情

专利名称	用于超长碳纳米管生长的高效复合催化剂薄膜的制备方法
申请号	CN200810234755.2	专利类型	发明专利
公开（公告）号	CN101722000A	公开（授权）日	2010.06.09
申请（专利权）人	苏州纳米技术与纳米仿生研究所	发明（设计）人	李清文;陈同来;杨晓杰;勇振中
主分类号	B01J23/78(2006.01)I	IPC主分类号	B01J23/78(2006.01)I;B01J23/745(2006.01)I;B01J35/02(2006.01)I;C01B31/02(2006.01)I;C23C14/35(2006.01)I;C23C14/18(2006.01)I;C23C14/54(2006.01)I;C23C14/02(2006.01)I
专利有效期	用于超长碳纳米管生长的高效复合催化剂薄膜的制备方法至用于超长碳纳米管生长的高效复合催化剂薄膜的制备方法	法律状态	专利申请权、专利权的转移
说明书摘要	本发明提供一种用于超长碳纳米管生长的高效复合催化剂薄膜的制备方法，先将硅衬底清洗后，并吹干，放入反应磁控溅射装置的反应室中，沉积前反应室背底绝对压力低于5×10-3Pa；采用Fe和Mg靶材作为溅射靶，或采用Fe和Al靶材作为溅射靶，以Ar气和O2气作为溅射气体，Ar气和O2气的流量比控制在1～10之间，待硅衬底温度加热至200～700℃后，溅射气体引入反应室至沉积室，整体压强达到1～10Pa后，开始溅射成膜，溅射功率控制在40～100W之间，靶材与衬底的垂直间距为50～100mm，控制沉积膜厚度在1～5nm；沉积完成后，随炉冷却至室温，切断气体源，取出成品，从而获得Mg-Fe-O或Al-Fe-O催化剂薄膜。可大面积制备高效催化剂薄膜，效率高、成本低，适用于碳纳米管阵列的批量制备。