专利详情

专利名称	叠层亚波长减反结构及其制备方法
申请号	CN200910264905.9	专利类型	发明专利
公开（公告）号	CN101726769A	公开（授权）日	2010.06.09
申请（专利权）人	中国科学院苏州纳米技术与纳米仿生研究所	发明（设计）人	张瑞英
主分类号	G02B1/11(2006.01)I	IPC主分类号	G02B1/11(2006.01)I
专利有效期	叠层亚波长减反结构及其制备方法至叠层亚波长减反结构及其制备方法	法律状态	实质审查的生效
说明书摘要	本发明揭示了一种叠层亚波长减反结构，包括在需要减反的高折射率材料自身表面通过蚀刻形成的亚波长图形，以及在前述亚波长图形表面经沉积生长的介质层，二者共同构成该叠层亚波长结构，其结构图形根据所用材料的折射率分布和所要减反的入射光波长和角度范围计算得到。本发明亚波长减反结构应用于高折射率表面的有源光电器件，能确实有效实现宽谱广角透射效果。较之于现有技术，本发明能有效钝化亚波长减反结构，减少非辐射复合中心，抑制非辐射复合损失，有效增加相应光电器件性能；并且，鉴于空气、介质材料和衬底材料折射率依次变化，故而采用叠层亚波长减反结构还能减弱制备难度，或在相同制备情况下获得更好的减反性能。