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荷正电纳滤复合膜及其制备方法

  • 申请号:CN201110116320.X
  • 专利类型:发明专利
  • 申请(专利权)人:中国科学院长春应用化学研究所
  • 公开(公开)号:CN102219673A
  • 公开(公开)日:2011.10.19
  • 法律状态:实质审查的生效
  • 出售价格: 面议
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专利详情

专利名称 荷正电纳滤复合膜及其制备方法
申请号 CN201110116320.X 专利类型 发明专利
公开(公告)号 CN102219673A 公开(授权)日 2011.10.19
申请(专利权)人 中国科学院长春应用化学研究所 发明(设计)人 张所波;王海峰
主分类号 C07C63/72(2006.01)I IPC主分类号 C07C63/72(2006.01)I;C07C51/60(2006.01)I;B01D71/42(2006.01)I;B01D69/10(2006.01)I;B01D67/00(2006.01)I;C08J7/04(2006.01)I
专利有效期 荷正电纳滤复合膜及其制备方法 至荷正电纳滤复合膜及其制备方法 法律状态 实质审查的生效
说明书摘要 本发明提供了具有式(I)结构的化合物及其制备方法。本发明还提供了一种荷正电纳滤复合膜,包括:聚丙烯腈支撑层;复合于所述聚丙烯腈支撑层表面的功能层,所述功能层为具有式(I)结构的化合物与哌嗪的聚合物。本发明还提供了一种荷正电纳滤复合膜的制备方法。本发明提供的荷正电纳滤复合膜表现为正电性,不仅具有较高的膜通量,而且对钙、镁等阳离子具有较高的截留率。另外,本发明提供的制备方法工艺简单、原料来源广泛,易于实现工业化生产。实验表明,本发明提供的方法制备得到的荷正电纳滤复合膜的水通量可达50L/m2h,对钙、镁等阳离子的截留率可达95%。

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