专利详情

专利名称	复合光子筛投影式光刻系统
申请号	CN201110234020.1	专利类型	发明专利
公开（公告）号	CN102289157A	公开（授权）日	2011.12.21
申请（专利权）人	中国科学院微电子研究所	发明（设计）人	谢常青;高南;华一磊;朱效立;李海亮;史丽娜;李冬梅;刘明
主分类号	G03F7/20(2006.01)I	IPC主分类号	G03F7/20(2006.01)I;G03F5/18(2006.01)I
专利有效期	复合光子筛投影式光刻系统至复合光子筛投影式光刻系统	法律状态	实质审查的生效
说明书摘要	本发明涉及微纳加工技术领域，公开了一种复合光子筛投影式光刻系统，该系统包括依次放置的照明系统、掩模板、复合光子筛和衬底，其中：照明系统，用于产生入射光，并将该入射光照射至掩模板；掩模板，用于提供复合光子筛成像的物方，入射光透过掩模板后被照射至复合光子筛；复合光子筛，用于实现成像功能，将掩模板上的图形在衬底上成像；衬底，用于接收复合光子筛对掩模板上图形所成的像。利用本发明，由于采用复合光子筛代替传统投影式光刻系统中的投影物镜，不仅能够保留传统投影式光刻系统效率高的优点，实现快速的大批量光刻，提高光刻效率，而且可以有效地降低成本，减小系统体积。