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用于牺牲层释放的二氧化碳固态升华装置

  • 申请号:CN200920107674.6
  • 专利类型:实用新型
  • 申请(专利权)人:中国科学院微电子研究所
  • 公开(公开)号:CN201427858
  • 公开(公开)日:2010.03.24
  • 法律状态:
  • 出售价格: 面议
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专利详情

专利名称 用于牺牲层释放的二氧化碳固态升华装置
申请号 CN200920107674.6 专利类型 实用新型
公开(公告)号 CN201427858 公开(授权)日 2010.03.24
申请(专利权)人 中国科学院微电子研究所 发明(设计)人 景玉鹏;惠瑜;高超群
主分类号 B81C1/00(2006.01)I IPC主分类号 B81C1/00(2006.01)I
专利有效期 用于牺牲层释放的二氧化碳固态升华装置 至用于牺牲层释放的二氧化碳固态升华装置 法律状态
说明书摘要 本实用新型公开了一种用于牺牲层释放的二氧化碳固态升华装置,该 装置至少包括过滤器(1)、暂存罐(2)、恒流恒压泵(3)、流量计(4)、 主工作腔室(5)、温度压力控制装置(7)和分离器(10),其中,过滤器 (1)、暂存罐(2)、恒流恒压泵(3)、流量计(4)、主工作腔室(5)和 分离器(10)依次连接,温度压力控制装置(7)连接于主工作腔室(5), 分离器(10)连接于过滤器(1),分离器(10)与过滤器(1)构成循环 回路。利用本实用新型,有效地解决了牺牲层释放工艺中的粘连效应。同 时,二氧化碳在相态转换时压力可调,消除了有机置换液凝固时的涨裂现 象。二氧化碳的使用更加绿色环保,无有机污染,节约资源。

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