专利详情

专利名称	平面光学元件面形的检测方法
申请号	CN201210289617.0	专利类型	发明专利
公开（公告）号	CN102818534A	公开（授权）日	2012.12.12
申请（专利权）人	中国科学院上海光学精密机械研究所	发明（设计）人	张敏;唐锋;王向朝;戴凤剑
主分类号	G01B11/24(2006.01)I	IPC主分类号	G01B11/24(2006.01)I
专利有效期	平面光学元件面形的检测方法至平面光学元件面形的检测方法	法律状态	著录事项变更
说明书摘要	一种用于反射率>13%的平面光学元件面形的检测方法，该检测方法所使用工具包括：斐索干涉仪、两块4%反射率的平面标准镜、一块4%～13%反射率的平面标准镜、一块透射率介于0.30～0.36之间的反射式或吸收式的衰减片。该检测方法首先对4%反射率、4%反射率和4%～13%反射率的三块标准镜进行绝对检验，得到4%～13%反射率平面标准镜的绝对面形；其次在干涉腔内插入衰减片，对4%～13%反射率的平面标准镜进行相对检验，计算出干涉仪系统误差；最后对待测元件进行相对检验，扣除系统误差，得到待测元件的绝对面形分布。本发明对反射率>13%的平面光学元件面形检测具有较高的检测精度。