专利详情

专利名称	一种制作微透镜阵列的方法
申请号	CN200810222332.9	专利类型	发明专利
公开（公告）号	CN101676798	公开（授权）日	2010.03.24
申请（专利权）人	中国科学院微电子研究所	发明（设计）人	董立军
主分类号	G03F7/00(2006.01)I	IPC主分类号	G03F7/00(2006.01)I;G03F7/16(2006.01)I;G03F7/20(2006.01)I;G03F7/26(2006.01)I;G03F7/42(2006.01)I;G02B3/00(2006.01)I
专利有效期	一种制作微透镜阵列的方法至一种制作微透镜阵列的方法	法律状态	实质审查的生效
说明书摘要	本发明公开了一种制作微透镜阵列的方法，该方法包括：在透明衬底上匀一层光刻胶；对该光刻胶层进行曝光显影，形成方形的光刻胶块；熔融该方形光刻胶块并迅速冷却至室温，形成具有微透镜形状的光刻胶掩膜；从透明衬底具有微透镜形状光刻胶掩膜的一面进行离子注入，在透明衬底中形成具有不同折射率的两层材料，其中一层材料具有微透镜形状；去除透明衬底上的光刻胶掩膜，形成具有不同折射率两种材料并且具有微透镜的阵列结构。利用本发明，可以制作多层透镜阵列，并能够与传统的集成电路离子注入光刻工艺相集成，适合大规模生产。