全环光子筛及其制作方法
- 申请号:CN200810222330.X
- 专利类型:发明专利
- 申请(专利权)人:中国科学院微电子研究所
- 公开(公开)号:CN101676750
- 公开(公开)日:2010.03.24
- 法律状态:实质审查的生效
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专利详情
| 专利名称 | 全环光子筛及其制作方法 | ||
| 申请号 | CN200810222330.X | 专利类型 | 发明专利 |
| 公开(公告)号 | CN101676750 | 公开(授权)日 | 2010.03.24 |
| 申请(专利权)人 | 中国科学院微电子研究所 | 发明(设计)人 | 贾佳;谢长青;刘明 |
| 主分类号 | G02B5/18(2006.01)I | IPC主分类号 | G02B5/18(2006.01)I;G02B5/00(2006.01)I;G03F7/20(2006.01)I;G03F7/00(2006.01)I;G03F7/36(2006.01)I |
| 专利有效期 | 全环光子筛及其制作方法 至全环光子筛及其制作方法 | 法律状态 | 实质审查的生效 |
| 说明书摘要 | 本发明公开了一种全环光子筛,该全环光子筛包括:光子筛,该光子 筛制作在透明介质上,其衍射孔径与相应菲涅耳环带宽度相等;刻蚀圆孔, 该刻蚀圆孔位于其余的菲涅耳环带处;该刻蚀圆孔数量和位置的决定规律 与光子筛圆环相同,从原来的偶数环增加到奇数环,或者从原来的奇数环 增加到偶数环,在波带片的奇数环带和偶数环带都有透光部分,分别是奇 数环带的透光孔和偶数环带的刻蚀位相透光孔,每个透光孔的直径和相应 的环带宽度相同,且该刻蚀圆孔与原来的衍射孔构成位相板。本发明同时 公开了一种制作全环光子筛的方法。利用本发明,实现了光子筛聚焦衍射 光强的提高,即实现了激光束远场衍射斑的主斑能量的提升。 | ||
交易流程
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专利 -
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