专利详情

专利名称	一种氧化硅/氧化铈复合磨粒的制备方法
申请号	CN200910196101.X	专利类型	发明专利
公开（公告）号	CN101671538	公开（授权）日	2010.03.17
申请（专利权）人	中国科学院上海微系统与信息技术研究所	发明（设计）人	张泽芳;刘卫丽;宋志棠
主分类号	C09K3/14(2006.01)I	IPC主分类号	C09K3/14(2006.01)I;H01L21/02(2006.01)I;B24B37/00(2006.01)I
专利有效期	一种氧化硅/氧化铈复合磨粒的制备方法至一种氧化硅/氧化铈复合磨粒的制备方法	法律状态	授权
说明书摘要	本发明涉及一种氧化硅/氧化铈复合磨粒的制备方法，包括下列步骤：1)在硅溶胶中加入有机添加剂，搅拌溶解，而后加入三价铈盐或四价铈盐制得分散液；2)将分散液置于带有聚四氟内衬的高压釜中，密封后，加热反应；3)反应完毕后离心分离、提纯、烘干，最终制得氧化硅/氧化铈复合磨粒。采用本发明制得的氧化硅/氧化铈核壳复合磨料中没有均相成核的氧化铈粒子，该复合磨粒适用于超大规模集成电路和玻璃的化学机械抛光，其优点是有效提高抛光去除率和选择比，并可以降低表面的粗糙度，消除划痕等缺陷。