
一种双面键合长波长垂直腔面发射激光器及其制作方法
- 申请号:CN200810119582.X
- 专利类型:发明专利
- 申请(专利权)人:中国科学院半导体研究所
- 公开(公开)号:CN101667716
- 公开(公开)日:2010.03.10
- 法律状态:授权
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专利详情
专利名称 | 一种双面键合长波长垂直腔面发射激光器及其制作方法 | ||
申请号 | CN200810119582.X | 专利类型 | 发明专利 |
公开(公告)号 | CN101667716 | 公开(授权)日 | 2010.03.10 |
申请(专利权)人 | 中国科学院半导体研究所 | 发明(设计)人 | 渠红伟;郑婉华;刘安金;王科;张冶金;彭红玲;陈良惠 |
主分类号 | H01S5/183(2006.01)I | IPC主分类号 | H01S5/183(2006.01)I;H01S5/187(2006.01)I;H01S5/343(2006.01)I |
专利有效期 | 一种双面键合长波长垂直腔面发射激光器及其制作方法 至一种双面键合长波长垂直腔面发射激光器及其制作方法 | 法律状态 | 授权 |
说明书摘要 | 本发明是一种双面键合长波长垂直腔面发射激光器(VCSEL)及其 制作方法。所述激光器包括N电极(1),N型GaAs衬底(2),N型 GaAs/AlGaAs材料系的下分布布拉格反射镜(DBR)(3),InP基应变量 子阱有源区(4),GaAs/AlGaAs材料系的上DBR(5),其中上DBR(5), 由P型DBR(6)和本征DBR(7)组成,SiO2掩膜(8),P电极(9), 出光窗口(10)。所述结构和所述方法改进了传统长波长VCSEL的DBR 材料折射率差较小,热导、电导差的缺点,不仅可实现很好的电流限制, 而且降低材料的吸收损耗、生长的难度和免去二次外延工艺步骤。 |
交易流程
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