专利详情

专利名称	多功能离子束溅射设备
申请号	CN200910083499.6	专利类型	发明专利
公开（公告）号	CN101880862A	公开（授权）日	2010.11.10
申请（专利权）人	中国科学院微电子研究所	发明（设计）人	龙世兵;刘明;陈宝钦;谢常青;贾锐;徐连生
主分类号	C23C14/46(2006.01)I	IPC主分类号	C23C14/46(2006.01)I;C23C14/56(2006.01)I
专利有效期	多功能离子束溅射设备至多功能离子束溅射设备	法律状态	实质审查的生效
说明书摘要	本发明公开了一种多功能离子束溅射设备，包括：一真空腔室；一溅射工件台，设置于该真空腔室的顶部正中位置，其下表面与水平面平行；二溅射靶台，设置于该真空腔室的下部，左右对称于该溅射工件台的中垂线所在方向；二溅射离子源，设置于该真空腔室的中部，左右对称于该溅射工件台的中垂线所在方向，发射的离子束与溅射靶台上装载的一个靶材表面成45°角；一辅助清洗离子源，设置于该真空腔室的中部，发射的离子束与该溅射工件台下表面成30°角。该设备兼备各种功能，可用于高质量多层超薄介质和金属薄膜材料的溅射沉积、刻蚀、抛光减薄和热处理。