专利详情

专利名称	一种用于光刻技术的无机热阻膜
申请号	CN200710065293.1	专利类型	发明专利
公开（公告）号	CN101286004	公开（授权）日	2008.10.15
申请（专利权）人	国家纳米科学中心	发明（设计）人	刘前;曹四海;郭传飞;李晓军
主分类号	G03F7/004(2006.01)I	IPC主分类号	G03F7/004(2006.01)I
专利有效期	一种用于光刻技术的无机热阻膜至一种用于光刻技术的无机热阻膜	法律状态	实质审查的生效
说明书摘要	本发明涉及一种用于光刻技术的无机热阻膜，包括基底、在基底上依次生长的无机金属薄膜A1和无机金属薄膜B；还包括在无机金属薄膜B的另一面上再生长一层相同的无机金属薄膜A2；所述的无机金属薄膜A1和无机金属薄膜A2为相同的金属，并且与无机金属薄膜B是三者能够一起生成二元合金的材料。本发明的无机热阻薄膜具有三明治夹层结构，该无机热阻膜充分利用热传导的向上、向下同时进行的双向传导过程，可以有效增加光刻后所得纳米构造的高度或深度。该无机热阻膜采用干法过程制备，在光刻过程中相关的干法过程有利于整个微纳米加工过程的干法化，有利于减少加工过程中的污染，减小加工成品的缺陷率，提高生产效率。