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一种光线投射多核并行体绘制方法

  • 申请号:CN200810142058.4
  • 专利类型:发明专利
  • 申请(专利权)人:深圳先进技术研究院
  • 公开(公开)号:CN101527031
  • 公开(公开)日:2009.09.09
  • 法律状态:实质审查的生效
  • 出售价格: 面议
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专利详情

专利名称 一种光线投射多核并行体绘制方法
申请号 CN200810142058.4 专利类型 发明专利
公开(公告)号 CN101527031 公开(授权)日 2009.09.09
申请(专利权)人 深圳先进技术研究院 发明(设计)人 黄波;刘思源;郑倩;姜志阳;文高进;冯圣中;樊建平
主分类号 G06T1/20(2006.01)I IPC主分类号 G06T1/20(2006.01)I;G06T15/00(2006.01)I
专利有效期 一种光线投射多核并行体绘制方法 至一种光线投射多核并行体绘制方法 法律状态 实质审查的生效
说明书摘要 本发明公开了一种基于Cell B.E.的光线投射并行体绘制方法,其包括 以下步骤:对三维体数据的读取和预处理:通过控制处理单元把屏幕图像 空间按行进行任务划分,依次分配给协处理器单元进程;三维场景和绘制 属性的设置;对屏幕上的每个像素进行绘制;对结果图像进行显示。本发 明所提供的一种基于Cell B.E.的光线投射并行体绘制方法,首先采用了PPE 和SPE任务划分的改进,然后,采用了SPE程序的性能优化:通过对SPE 绘制流程中的相交测试、坐标变换、明暗计算和颜色合成等最主要的任务 进行SIMD化的操作,并采用“渗透”技术有效地解决了光线投射法中不 规则访存问题,最终提高了程序的性能。

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