专利详情

专利名称	一种交联阴离子膜及其制备方法和应用
申请号	CN201010563791.0	专利类型	发明专利
公开（公告）号	CN102479962A	公开（授权）日	2012.05.30
申请（专利权）人	中国科学院大连化学物理研究所;大连融科储能技术发展有限公司	发明（设计）人	张华民;曲超;张凤祥;邱艳玲
主分类号	H01M8/02(2006.01)I	IPC主分类号	H01M8/02(2006.01)I;H01M2/16(2006.01)I;C08J3/24(2006.01)I;C08J5/22(2006.01)I;C08K5/31(2006.01)I
专利有效期	一种交联阴离子膜及其制备方法和应用至一种交联阴离子膜及其制备方法和应用	法律状态	专利申请权、专利权的转移
说明书摘要	本发明公开了一种高性能交联型阴离子膜及其制备方法，所述阴离子膜由含苄基卤基团的聚合物通过双胍或多胍交联制备而成，该类膜可应用于燃料电池和酸性电解质液流储能电池中。膜结构更加紧密，形变、含水率较低，离子选择性好，由于正电荷分布更加分散，热稳定性，耐氧化稳定性更好。双胍或多胍交联阴离子膜的强碱性，能更好地阻隔全钒液流储能电池中钒离子的迁移，同时交联能抑制溶胀，能进一步抑制钒离子的迁移，提高电池的库仑效率至99％以上，表现出高稳定性、高电导率和低溶胀率。