专利详情

专利名称	一种离子液体/添加剂体系低温电沉积制备纳米铝或纳米铝镀层的方法
申请号	CN201110204292.7	专利类型	发明专利
公开（公告）号	CN102888630A	公开（授权）日	2013.01.23
申请（专利权）人	中国科学院过程工程研究所	发明（设计）人	吕兴梅;刘恋;张锁江;张香平;郑勇;张亲亲
主分类号	C25D3/44(2006.01)I	IPC主分类号	C25D3/44(2006.01)I;C25D5/20(2006.01)I;B82Y40/00(2011.01)I;B82Y30/00(2011.01)I
专利有效期	一种离子液体/添加剂体系低温电沉积制备纳米铝或纳米铝镀层的方法至一种离子液体/添加剂体系低温电沉积制备纳米铝或纳米铝镀层的方法	法律状态	实质审查的生效
说明书摘要	本发明设计一种采用离子液体/添加剂体系电沉积制备纳米铝或纳米铝镀层的方法，其特征在于采用离子液体与无水三氯化铝混合形成低温电解液，加入适宜的添加剂制备成离子液体/添加剂体系。以处理过的基体为沉积阴极，采用直流电沉积制备纳米铝或纳米铝镀层，铝颗粒尺寸可根据需要进行调整。该方法避免了现有工艺生产纳米铝成本昂贵、产量小的问题。所采用的离子液体为常规离子液体，来源广泛、价格低廉、电导率高、电化学窗口宽、不挥发、环境友好。适宜添加剂的使用实现了在常规离子液体体系中得到质量较好的纳米铝或纳米铝镀层，所得铝沉积层致密、光滑、平整。离子液体/添加剂体系可以在较低的温度下得到纳米材料，反应易控制、能耗小，得到的纳米铝质量好、电流效率高，通过调节添加剂的用量及配方能够有效地控制纳米铝的尺寸，工艺简单，成本低廉，应用前景较好。