一种(R)或(S)-2-氨甲基四氢吡咯的制备方法
- 申请号:CN200910055298.5
- 专利类型:发明专利
- 申请(专利权)人:凯惠科技发展(上海)有限公司;中国科学院上海有机化学研究所
- 公开(公开)号:CN101962353A
- 公开(公开)日:2011.02.02
- 法律状态:授权
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专利详情
| 专利名称 | 一种(R)或(S)-2-氨甲基四氢吡咯的制备方法 | ||
| 申请号 | CN200910055298.5 | 专利类型 | 发明专利 |
| 公开(公告)号 | CN101962353A | 公开(授权)日 | 2011.02.02 |
| 申请(专利权)人 | 凯惠科技发展(上海)有限公司;中国科学院上海有机化学研究所 | 发明(设计)人 | 金仲恩;唐本刚;何伟华;傅克洪 |
| 主分类号 | C07D207/09(2006.01)I | IPC主分类号 | C07D207/09(2006.01)I;C07B53/00(2006.01)I |
| 专利有效期 | 一种(R)或(S)-2-氨甲基四氢吡咯的制备方法 至一种(R)或(S)-2-氨甲基四氢吡咯的制备方法 | 法律状态 | 授权 |
| 说明书摘要 | 本发明公开了一种如D所示的(R)或(S)-2-氨甲基四氢吡咯的制备方法,其包含下列步骤:(1)有机溶剂中,在硼氢化钠和碘的作用下,将化合物B进行还原酰氨基的反应,即可制得化合物C;(2)有机溶剂中,步骤(1)所得的化合物C在三氟醋酸的作用下,脱去氨基的叔丁氧羰基保护基,即可制得化合物D;其中,*表示手性碳的绝对构型R或S。本发明的制备方法反应步骤较少,后处理简单,成本较低,收率较高,能够避免产品的消旋化,从而得到光活性纯度大于99%以上的高纯度产品,特别适用于中试放大或工业化生产。 | ||
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