一种增加大视场像面相对照度均匀性的方法
- 申请号：CN200910254668.8
- 专利类型：发明专利
- 申请（专利权）人：中国科学院西安光学精密机械研究所
- 公开(公开)号：CN101950082A
- 公开(公开)日：2011.01.19
- 法律状态：实质审查的生效
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专利详情
| 专利名称 | 一种增加大视场像面相对照度均匀性的方法 | ||
| 申请号 | CN200910254668.8 | 专利类型 | 发明专利 |
| 公开（公告）号 | CN101950082A | 公开（授权）日 | 2011.01.19 |
| 申请（专利权）人 | 中国科学院西安光学精密机械研究所 | 发明（设计）人 | 屈恩世;曹剑中;范哲源;周祚峰 |
| 主分类号 | G02B27/00(2006.01)I | IPC主分类号 | G02B27/00(2006.01)I |
| 专利有效期 | 一种增加大视场像面相对照度均匀性的方法 至一种增加大视场像面相对照度均匀性的方法 | 法律状态 | 实质审查的生效 |
| 说明书摘要 | 本发明突破传统固有思维，提出了一种全新的补偿像面照度的理论和方法，不影响成像系统的透过率，经理论计算验证和实验，采用适当的畸变，可以在较大的视场范围内增加像面的边缘照度，切实提高了提高像面照度的均匀性，尤其适合低照度大视场成像系统的光学系统工程设计。 | ||
交易流程
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选取所需
专利 -
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可交易 - 03 签订合同
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