专利详情

专利名称	一种掺杂稳定化氧化锆的耐高温光学膜及其制备方法
申请号	CN200610161333.8	专利类型	发明专利
公开（公告）号	CN1996055	公开（授权）日	2007.07.11
申请（专利权）人	中国科学技术大学	发明（设计）人	黄烽;王海千;李明;谢斌;侯建国;宋亦周;姜友松
主分类号	G02B1/00(2006.01)	IPC主分类号	G02B1/00(2006.01);C23C14/35(2006.01);C23C14/54(2006.01);C23C14/14(2006.01)
专利有效期	一种掺杂稳定化氧化锆的耐高温光学膜及其制备方法至一种掺杂稳定化氧化锆的耐高温光学膜及其制备方法	法律状态	专利申请权、专利权的转移
说明书摘要	本发明掺杂稳定化氧化锆的耐高温光学膜及其制备方法，特征是采用磁控反应溅射仪或自由基辅助溅射仪，由Y与Zr按摩尔比为10－50∶100或由Al与Zr按摩尔比为3.5－9∶10组成的混合靶材作为溅射源；所得到的由稳定化的氧化锆高折射率层和非晶SiO₂低折射率层交替堆叠而成的多层膜，其中稳定化的氧化锆是掺Y₂O₃或Al₂O₃作稳定剂的ZrO₂；若掺杂的是Y₂O₃，则Y₂O₃与ZrO₂的摩尔比为5－25∶100；若掺杂的是Al₂O₃，则Al₂O₃和ZrO₂的摩尔比为1.7－4.5∶10。该多层膜可用作光学薄膜滤波片、灯泡外层滤红外光的薄膜或在500－1000℃高温下进行光学测量用的薄膜器件。