大面积平板常压射频冷等离子体系统
- 申请号:CN200920108533.6
- 专利类型:实用新型
- 申请(专利权)人:中国科学院微电子研究所
- 公开(公开)号:CN201414256
- 公开(公开)日:2010.02.24
- 法律状态:授权
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专利详情
专利名称 | 大面积平板常压射频冷等离子体系统 | ||
申请号 | CN200920108533.6 | 专利类型 | 实用新型 |
公开(公告)号 | CN201414256 | 公开(授权)日 | 2010.02.24 |
申请(专利权)人 | 中国科学院微电子研究所 | 发明(设计)人 | 王守国;张超前;赵玲利;杨景华 |
主分类号 | H05H1/46(2006.01)I | IPC主分类号 | H05H1/46(2006.01)I |
专利有效期 | 大面积平板常压射频冷等离子体系统 至大面积平板常压射频冷等离子体系统 | 法律状态 | 授权 |
说明书摘要 | 本实用新型公开了一种大面积平板常压射频冷等离子体系统,包括一 外壳、射频电源、供气源、等离子体发生器、温度控制系统和支架;在一 个外壳内,有两个表面彼此平行且相互绝缘的电极,一个与射频电源连接 叫射频电极,另一个与地连接叫地电极;在该射频电极和该地电极之间形 成等离子体的放电区间;在该放电区间的两侧和一端设有绝缘材料,该两 侧的绝缘材料使两个电极位置相对固定并使电极两侧对外密封,在一端的 绝缘材料上开设有通气孔,该通气孔通过进气导管与供气源连接;在该两 个电极的另一端开设有长条形的开口,通过该开口可以输送基片进入等离 子体的放电区间或从放电区间中取出基片;在地电极的底部设有一个加热 器来调节地电极上的温度。 |
交易流程
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