高速多光束并行激光直写装置
- 申请号：CN200920067227.2
- 专利类型：实用新型
- 申请（专利权）人：中国科学院上海光学精密机械研究所
- 公开(公开)号：CN201345033
- 公开(公开)日：2009.11.11
- 法律状态：授权
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专利详情
| 专利名称 | 高速多光束并行激光直写装置 | ||
| 申请号 | CN200920067227.2 | 专利类型 | 实用新型 |
| 公开（公告）号 | CN201345033 | 公开（授权）日 | 2009.11.11 |
| 申请（专利权）人 | 中国科学院上海光学精密机械研究所 | 发明（设计）人 | 徐文东;范永涛 |
| 主分类号 | G03F7/20(2006.01)I | IPC主分类号 | G03F7/20(2006.01)I;B23K26/00(2006.01)I |
| 专利有效期 | 高速多光束并行激光直写装置 至高速多光束并行激光直写装置 | 法律状态 | 授权 |
| 说明书摘要 | 一种适用于微纳加工的高速多光束并行激光直写装置，由刻写光源 调制模块、刻写光头、离焦检测模块、照明与监控模块、样品位移台和 主控模块组成，本实用新型提供多光束激光并行高速刻写，大大提高了 刻写速度。可根据实际应用需要，将多光束的刻写子系统与不同运动方 式的样品台组合成具有不同功能的刻写装置。 | ||
交易流程
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01
选取所需
专利 -
02
确认专利
可交易 - 03 签订合同
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05
确认变更
成功 - 06 支付尾款
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过户资料
平台保障
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4、专员跟进，交易保障
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