专利详情

专利名称	用于溅射磁性材料的磁控靶
申请号	CN200820219582.2	专利类型	实用新型
公开（公告）号	CN201296778	公开（授权）日	2009.08.26
申请（专利权）人	中国科学院沈阳科学仪器研制中心有限公司	发明（设计）人	冯彬;鲁向群;佟辉;刘大为;周颖;刘丽华
主分类号	C23C14/35(2006.01)I	IPC主分类号	C23C14/35(2006.01)I
专利有效期	用于溅射磁性材料的磁控靶至用于溅射磁性材料的磁控靶	法律状态	授权
说明书摘要	本实用新型公开一种用于溅射磁性材料的磁控靶，由外屏蔽罩、磁钢座、极靴、绝缘座、固定座、靶材压盖、内外磁钢、进出水嘴、联接螺栓和密封橡胶圈等部分组成。外屏蔽罩和固定座之间采用螺纹手动可调结构。磁钢座材料为无氧铜，中心放内磁钢，周边钻若干小孔放外磁钢，靶材直接放在磁钢座上，通过靶材压盖固定。极靴材料为导磁材料，磁控靶工作时直流或者射频电源加在极靴上。极靴下面氩弧焊焊接进出水嘴，冷却水低进高出，靠密封橡胶圈实现密封。绝缘座材料为可以在真空下使用的耐热绝缘材料，安装在固定座(阳极)和极靴(阴极)之间。绝缘帽起到带电螺钉(阴极)和固定座(阳极)之间的绝缘作用。本实用新型结构简单，成本低，磁控靶寿命长。