大容积陶瓷真空室
- 申请号：CN200820028714.3
- 专利类型：实用新型
- 申请（专利权）人：中国科学院近代物理研究所
- 公开(公开)号：CN201162032
- 公开(公开)日：2008.12.10
- 法律状态：授权
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专利详情
| 专利名称 | 大容积陶瓷真空室 | ||
| 申请号 | CN200820028714.3 | 专利类型 | 实用新型 |
| 公开（公告）号 | CN201162032 | 公开（授权）日 | 2008.12.10 |
| 申请（专利权）人 | 中国科学院近代物理研究所 | 发明（设计）人 | 张小奇;张军辉;马力祯;何源;赵玉刚;胡振军 |
| 主分类号 | C21D10/00(2006.01)I | IPC主分类号 | C21D10/00(2006.01)I;C22F3/00(2006.01)I;C22C1/02(2006.01)I |
| 专利有效期 | 大容积陶瓷真空室 至大容积陶瓷真空室 | 法律状态 | 授权 |
| 说明书摘要 | 本实用新型主要涉及电真空领域，尤其涉及在高频交流电场或交变磁场下可以使用 的一种大容积超高真空容器。包括陶瓷管(3)，其主要特点是陶瓷管(3)两端联结有钛 管(2)，钛管(2)的端部设有真空法兰(1)。陶瓷管(3)可采用大口径。陶瓷管(3) 为2-4段，陶瓷管(3)之间采用过渡环(4)相连接。钛管(2)与陶瓷管(3)的联结 处，钛管(2)的端部为直角翻边，其翻边平面与陶瓷管(3)的端面相联。所述的大容 积陶瓷真空室真空度好于1×10-7Pa，直径近300毫米，长度大于1100毫米，容积70升。 | ||
交易流程
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