倾斜沉积镀膜装置
- 申请号：CN200820054561.X
- 专利类型：实用新型
- 申请（专利权）人：中国科学院上海光学精密机械研究所
- 公开(公开)号：CN201141921
- 公开(公开)日：2008.10.29
- 法律状态：授权
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专利详情
| 专利名称 | 倾斜沉积镀膜装置 | ||
| 申请号 | CN200820054561.X | 专利类型 | 实用新型 |
| 公开（公告）号 | CN201141921 | 公开（授权）日 | 2008.10.29 |
| 申请（专利权）人 | 中国科学院上海光学精密机械研究所 | 发明（设计）人 | 肖秀娣;董国平;齐红基;贺洪波;邵建达 |
| 主分类号 | G02B1/10(2006.01)I | IPC主分类号 | G02B1/10(2006.01)I |
| 专利有效期 | 倾斜沉积镀膜装置 至倾斜沉积镀膜装置 | 法律状态 | 授权 |
| 说明书摘要 | 一种用于电子枪蒸发镀膜机内镀制雕塑薄膜的倾斜沉积镀膜装置， 包括安装架、球冠形夹具和楔形块，还有套筒、步进电机、步进电机驱 动器和计算机，该安装架将该装置安装在镀膜机的真空室内；该楔形块 根据倾斜角度进行设计；该可拆卸套筒用于连接步进电机和球冠形夹具； 该步进电机用于控制球冠形夹具的匀速转动；步进电机通过电缆与驱动 器相连，驱动器通过电缆与计算机相连，计算机通过已有程序控制夹具 的转速。本实用新型主动引入基片倾角，一次可以镀制多片不同倾角的 雕塑薄膜，具有结构简单，紧凑，容易操作的特点。 | ||
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