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一种RFID标签介质影响的基准测试系统及方法

  • 申请号:CN201010185459.5
  • 专利类型:发明专利
  • 申请(专利权)人:中国科学院自动化研究所
  • 公开(公开)号:CN101833034A
  • 公开(公开)日:2010.09.15
  • 法律状态:实质审查的生效
  • 出售价格: 面议
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专利详情

专利名称 一种RFID标签介质影响的基准测试系统及方法
申请号 CN201010185459.5 专利类型 发明专利
公开(公告)号 CN101833034A 公开(授权)日 2010.09.15
申请(专利权)人 中国科学院自动化研究所 发明(设计)人 关强;刘禹
主分类号 G01R23/00(2006.01)I IPC主分类号 G01R23/00(2006.01)I;G06K19/067(2006.01)I
专利有效期 一种RFID标签介质影响的基准测试系统及方法 至一种RFID标签介质影响的基准测试系统及方法 法律状态 实质审查的生效
说明书摘要 本发明公开了一种RFID标签介质影响的基准测试系统及方法,由测试控制器、频谱分析仪、矢量信号发生器、发射天线、接收天线、发射天线支架、接收天线支架、基底介质材料、基底板支架,以及用来确定待测标签与基底介质材料之间间距的聚苯乙烯块组成,在输入能量相同的情况下,通过测量待测标签与不同基底介质材料间距若干确定距离时标签反向散射信号的变化来评价该测试标签对于不同基底材料和不同间距下的工作状态。利用该测试系统与方法,可以指导使用者在RFID部署前即根据应用环境中介质材料的特点选择更加友好和能量转换效率更高的RFID标签,进而为使用者提供一种简单、明确、有效的RFID自动化测试工具和基准测试方法。

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