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半导体晶片的制造方法

  • 申请号:CN201010591794.5
  • 专利类型:发明专利
  • 申请(专利权)人:中国科学院微电子研究所
  • 公开(公开)号:CN102543671A
  • 公开(公开)日:2012.07.04
  • 法律状态:实质审查的生效
  • 出售价格: 面议
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专利详情

专利名称 半导体晶片的制造方法
申请号 CN201010591794.5 专利类型 发明专利
公开(公告)号 CN102543671A 公开(授权)日 2012.07.04
申请(专利权)人 中国科学院微电子研究所 发明(设计)人 钟汇才;梁擎擎;赵超
主分类号 H01L21/02(2006.01)I IPC主分类号 H01L21/02(2006.01)I;H01L21/322(2006.01)I
专利有效期 半导体晶片的制造方法 至半导体晶片的制造方法 法律状态 实质审查的生效
说明书摘要 本申请公开了一种半导体晶片的制造方法,包括:加热,使金属材料溶解到晶片中的半导体材料中,从而产生半导体-金属化合物;以及冷却,使所产生的半导体-金属化合物逆熔化,而形成金属半导体混合物。根据本发明的实施例,利于得到适用于半导体制造工艺的高纯度晶片。

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