半导体晶片的制造方法
- 申请号:CN201010591794.5
- 专利类型:发明专利
- 申请(专利权)人:中国科学院微电子研究所
- 公开(公开)号:CN102543671A
- 公开(公开)日:2012.07.04
- 法律状态:实质审查的生效
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专利详情
| 专利名称 | 半导体晶片的制造方法 | ||
| 申请号 | CN201010591794.5 | 专利类型 | 发明专利 |
| 公开(公告)号 | CN102543671A | 公开(授权)日 | 2012.07.04 |
| 申请(专利权)人 | 中国科学院微电子研究所 | 发明(设计)人 | 钟汇才;梁擎擎;赵超 |
| 主分类号 | H01L21/02(2006.01)I | IPC主分类号 | H01L21/02(2006.01)I;H01L21/322(2006.01)I |
| 专利有效期 | 半导体晶片的制造方法 至半导体晶片的制造方法 | 法律状态 | 实质审查的生效 |
| 说明书摘要 | 本申请公开了一种半导体晶片的制造方法,包括:加热,使金属材料溶解到晶片中的半导体材料中,从而产生半导体-金属化合物;以及冷却,使所产生的半导体-金属化合物逆熔化,而形成金属半导体混合物。根据本发明的实施例,利于得到适用于半导体制造工艺的高纯度晶片。 | ||
交易流程
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01
选取所需
专利 -
02
确认专利
可交易 - 03 签订合同
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05
确认变更
成功 - 06 支付尾款
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过户资料
平台保障
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