专利详情

专利名称	泄漏结构大模场双包层单模掺镱光纤
申请号	CN200720070556.3	专利类型	实用新型
公开（公告）号	CN201044001	公开（授权）日	2008.04.02
申请（专利权）人	中国科学院上海光学精密机械研究所	发明（设计）人	楼祺洪;李立波;周军;吴国华;董景星;魏运荣
主分类号	G02B6/02(2006.01)I	IPC主分类号	G02B6/02(2006.01)I
专利有效期	泄漏结构大模场双包层单模掺镱光纤至泄漏结构大模场双包层单模掺镱光纤	法律状态	授权
说明书摘要	一种泄漏结构大模场双包层单模掺镱光纤，包括纤芯、内包层及外包层，其特征是在所述的纤芯和内包层之间还有中间层和泄漏层，所述的纤芯是掺镱石英玻璃，所述的纤芯、中间层、泄漏层、内包层和外包层的折射率分别为n₁、n₂、n₃、n₄、n₅，且n₅＜n₄＜n₂＜n₃＝n₁，所述的纤芯的半径为a，中间层的最大半径为b，1.5a＜b＜2a， n₁通常在1.46～1.47之间，0.27％＜Δ＝(n₁-n₂)/n₁＜0.54％。本实用新型泄漏结构大模场双包层单模掺镱光纤可利用传统双包层光纤的拉制方法拉制，具有较大纤芯时，仍能保证高功率单模运行。