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高密度光栅偏振相关自成像的探测装置

  • 申请号:CN200620041241.1
  • 专利类型:实用新型
  • 申请(专利权)人:中国科学院上海光学精密机械研究所
  • 公开(公开)号:CN2911666
  • 公开(公开)日:2007.06.13
  • 法律状态:授权
  • 出售价格: 面议
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专利详情

专利名称 高密度光栅偏振相关自成像的探测装置
申请号 CN200620041241.1 专利类型 实用新型
公开(公告)号 CN2911666 公开(授权)日 2007.06.13
申请(专利权)人 中国科学院上海光学精密机械研究所 发明(设计)人 周常河;陆云清
主分类号 G01N13/14(2006.01) IPC主分类号 G01N13/14(2006.01);G01N21/958(2006.01);G01M11/02(2006.01)
专利有效期 高密度光栅偏振相关自成像的探测装置 至高密度光栅偏振相关自成像的探测装置 法律状态 授权
说明书摘要 一种高密度光栅偏振相关自成像的探测装置,包括一激光器,沿该激光器出射的激光束方向依次设1/4波片、偏振片、高密度光栅和头部开口的光纤探针,该高密度光栅放在微动平台上,该微动平台由计算机精确控制在激光束方向的移动,所述的光纤探针由压电陶瓷管驱动进行扫描,所述的光纤探针的尾部经光电探测器与计算机相连。本实用新型可检测高密度光栅在不同偏振态入射光下的自成像效应,测量精度高。

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