一种增强型氧荧光敏感膜及其制备方法
- 申请号：CN201010522943.2
- 专利类型：发明专利
- 申请（专利权）人：中国科学院大连化学物理研究所
- 公开(公开)号：CN102455292A
- 公开(公开)日：2012.05.16
- 法律状态：实质审查的生效
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专利详情
| 专利名称 | 一种增强型氧荧光敏感膜及其制备方法 | ||
| 申请号 | CN201010522943.2 | 专利类型 | 发明专利 |
| 公开（公告）号 | CN102455292A | 公开（授权）日 | 2012.05.16 |
| 申请（专利权）人 | 中国科学院大连化学物理研究所 | 发明（设计）人 | 段春凤;关亚风 |
| 主分类号 | G01N21/64(2006.01)I | IPC主分类号 | G01N21/64(2006.01)I;C09K11/02(2006.01)I |
| 专利有效期 | 一种增强型氧荧光敏感膜及其制备方法 至一种增强型氧荧光敏感膜及其制备方法 | 法律状态 | 实质审查的生效 |
| 说明书摘要 | 本发明涉及一种增强型氧荧光敏感膜及其制备方法，该发明是利用溶胶凝胶或者聚合物基质对荧光探针金属络合物和荧光增强物质纳米二氧化钛颗粒进行有效包埋，制备出对氧具有增强响应的纳米材料掺杂光化学传感膜。采用该方法制备的氧敏感膜表面均匀，机械强度好，荧光强度高，制作工艺简单，可采用低灵敏度的光电检测装置进行检测，有效地降低了传感器成本，易于微型化和实用化。 | ||
交易流程
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