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一种气体旋转脉动分布的气固相反应装置

  • 申请号:CN201120200674.8
  • 专利类型:实用新型
  • 申请(专利权)人:北京工业大学;中国科学院过程工程研究所
  • 公开(公开)号:CN202113844U
  • 公开(公开)日:2012.01.18
  • 法律状态:授权
  • 出售价格: 面议
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专利详情

专利名称 一种气体旋转脉动分布的气固相反应装置
申请号 CN201120200674.8 专利类型 实用新型
公开(公告)号 CN202113844U 公开(授权)日 2012.01.18
申请(专利权)人 北京工业大学;中国科学院过程工程研究所 发明(设计)人 李钒;夏定国;梁向峰;刘会洲
主分类号 B01J8/16(2006.01)I IPC主分类号 B01J8/16(2006.01)I
专利有效期 一种气体旋转脉动分布的气固相反应装置 至一种气体旋转脉动分布的气固相反应装置 法律状态 授权
说明书摘要 本实用新型涉及一种具有气体旋转脉动分布功能的气固相反应装置,属于冶金设备技术领域。其包括一个下部接在旋转电机上的侧路进气的管式气体分布器和一个固定的气体分布板,气源为脉冲气源。在旋转的管式气体分布器和固定气体分布板之间为缠绕的电阻丝加热热源,使反应气体加热到达反应设定温度。在固定气体分布板的上部放置需要反应的固体粉末原料和所需要的惰性反应填料如氧化铝和氧化锆球等。本装置适用于气固两相反应,气体的脉动输入和管式气体分布器的旋转气体分布有效的改善气体在固相反应物和惰性填料之间的流动分布方式,以达到增加气固两相接触界面,有效抑制沟流等有害现象的发生,达到提高反应速率,降低气体消耗量的作用。

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