专利详情

专利名称	基于微孔薄膜的可调控X射线赝热光源
申请号	CN201110129449.4	专利类型	发明专利
公开（公告）号	CN102325421A	公开（授权）日	2012.01.18
申请（专利权）人	中国科学院上海光学精密机械研究所	发明（设计）人	喻虹;韩申生;沈夏
主分类号	H05G2/00(2006.01)I	IPC主分类号	H05G2/00(2006.01)I
专利有效期	基于微孔薄膜的可调控X射线赝热光源至基于微孔薄膜的可调控X射线赝热光源	法律状态	实质审查的生效
说明书摘要	一种基于微孔薄膜的高亮度可调控X射线赝热光源，包括置于防辐射外壳中的单色X射线产生系统和赝热X射线调控腔，所述的单色X射线产生系统由振荡器、白光狭缝、双晶单色器同轴构成，所述的赝热X射线调控腔由可调狭缝组、微孔薄膜及其运动控制器、X射线出射窗同轴构成。由振荡器产生的热X射线经传播首先到达白光狭缝，限束后进入双晶单色器，经双晶单色器单色化后成为单色X射线，辐照到赝热X射线调控腔，在腔内依次经过固定于底盘上的可调狭缝组和微孔薄膜，在微孔薄膜运动控制器控制下，在微孔薄膜后方形成动态X射线散斑，由X射线出射窗出射，即为X射线赝热光场。本发明具有X光波段适用、高分辨率、高亮度、可调控和稳定性好的特点。