专利详情

专利名称	一种高硬度微米研磨液及其配制方法
申请号	CN201010222586.8	专利类型	发明专利
公开（公告）号	CN102311717A	公开（授权）日	2012.01.11
申请（专利权）人	中国科学院微电子研究所	发明（设计）人	汪宁;陈晓娟;罗卫军;庞磊;刘新宇
主分类号	C09K3/14(2006.01)I	IPC主分类号	C09K3/14(2006.01)I
专利有效期	一种高硬度微米研磨液及其配制方法至一种高硬度微米研磨液及其配制方法	法律状态	实质审查的生效
说明书摘要	本发明公开了一种高硬度微米研磨液及其配制方法，该研磨液由单晶人造金刚石微粉、氧化铝微粉、无机盐混合物、有机物PEG200、氨水、丙酸和去离子水配置而成，具体质量百分比为：金刚石微粉0.1～2.0％，氧化铝微粉0.2～5.0％，无机盐混合物0.2～5.0％，PEG2000.5％～10％，氨水0.01～1％，丙酸0.01～1％，去离子水78～98.5％。本发明同时公开了一种配制上述研磨液的方法。利用本发明提供的这种一种高硬度微米研磨液及其配制方法，调配出的研磨液采用高硬度微米级磨料，使用效果理想，各项机械性能指标均衡，满足了GaN外延用衬底(碳化硅，蓝宝石)进行减薄研磨工艺的要求。