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温控可充气真空辐射设备

  • 申请号:CN201110252532.0
  • 专利类型:发明专利
  • 申请(专利权)人:中国科学院微电子研究所
  • 公开(公开)号:CN102339655A
  • 公开(公开)日:2012.02.01
  • 法律状态:实质审查的生效
  • 出售价格: 面议
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专利详情

专利名称 温控可充气真空辐射设备
申请号 CN201110252532.0 专利类型 发明专利
公开(公告)号 CN102339655A 公开(授权)日 2012.02.01
申请(专利权)人 中国科学院微电子研究所 发明(设计)人 曾传滨;毕津顺;刘刚;罗家俊;韩郑生
主分类号 G21K5/00(2006.01)I IPC主分类号 G21K5/00(2006.01)I;H01L21/67(2006.01)I;G01R31/26(2006.01)I
专利有效期 温控可充气真空辐射设备 至温控可充气真空辐射设备 法律状态 实质审查的生效
说明书摘要 一种在电子元器件辐射实验中使用的温控可充气真空辐射设备,包括:限定了辐照腔的罩体;携载电子元器件容装在辐照腔内的器件盘;可开闭的封盖结构,其连接于罩体的开口端,以在闭合时气密密封辐照腔;固定于封盖结构的线缆接头;温控系统,其包括辐照腔内的温控板以及穿过封盖结构的冷媒输入和排出管路,温控板的冷媒腔室经冷媒输入和排出管路接收和排出冷媒,其电加热装置电连接到线缆接头;以及抽空充气系统,其包括穿过封盖结构的抽空充气管路和辐照腔外的第一阀门装置,以经该阀门装置和抽空充气管路对辐照腔抽空或充气。本发明的辐射设备可为电子元器件辐射实验准确提供各种温度、气体成分环境,有利满足了电子元器件辐射效应研究的需求。

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