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氮化镓基3D垂直结构发光二极管的结构

  • 申请号:CN201210506365.2
  • 专利类型:发明专利
  • 申请(专利权)人:中国科学院半导体研究所
  • 公开(公开)号:CN102969418A
  • 公开(公开)日:2013.03.13
  • 法律状态:实质审查的生效
  • 出售价格: 面议
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专利详情

专利名称 氮化镓基3D垂直结构发光二极管的结构
申请号 CN201210506365.2 专利类型 发明专利
公开(公告)号 CN102969418A 公开(授权)日 2013.03.13
申请(专利权)人 中国科学院半导体研究所 发明(设计)人 谢海忠;张扬;杨华;李璟;刘志强;伊晓燕;王军喜;王国宏;李晋闽
主分类号 H01L33/06(2010.01)I IPC主分类号 H01L33/06(2010.01)I;H01L33/22(2010.01)I
专利有效期 氮化镓基3D垂直结构发光二极管的结构 至氮化镓基3D垂直结构发光二极管的结构 法律状态 实质审查的生效
说明书摘要 一种氮化镓基3D垂直结构发光二极管的结构,包括:一衬底,该衬底的下面开有一沟槽,在沟槽的一侧开有一通孔;一N型掺杂层生长在衬底上,该N型掺杂层的宽度小于衬底的宽度,该N型掺杂层未覆盖衬底上的通孔;一多量子阱发光层生长在N型掺杂层上;一P型掺杂层生长在多量子阱发光层上;一ITO层生长在P型掺杂层上;一绝缘层制作在N型掺杂层、多量子阱发光层、P型掺杂层和ITO层的侧壁上,及衬底上的通孔的侧壁上;一导电层制作在绝缘层上,并覆盖部分ITO层的上表面;一P型电极制作在ITO层上表面的中心部位,并与导电层相连接;一金属电极制作在衬底下面沟槽的侧壁面上,并覆盖衬底的部分下表面。

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