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用于无水胶印制版的底涂液,其制备方法及其应用

  • 申请号:CN201110268221.3
  • 专利类型:发明专利
  • 申请(专利权)人:中国科学院化学研究所
  • 公开(公开)号:CN102994015A
  • 公开(公开)日:2013.03.27
  • 法律状态:实质审查的生效
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专利详情

专利名称 用于无水胶印制版的底涂液,其制备方法及其应用
申请号 CN201110268221.3 专利类型 发明专利
公开(公告)号 CN102994015A 公开(授权)日 2013.03.27
申请(专利权)人 中国科学院化学研究所 发明(设计)人 周海华;宋延林
主分类号 C09J129/14(2006.01)I IPC主分类号 C09J129/14(2006.01)I;C09J175/04(2006.01)I;C09J133/00(2006.01)I;C09J161/06(2006.01)I;C09J163/00(2006.01)I;C09J161/28(2006.01)I;C09J167/00(2006.01)I;C09J167/08(2006.01)I;C09J123/08(2006.01)I;C09J131/04(2006.01)I;C09J11/06(2006.01)I;C09J11/04(2006.01)I;B41C1/10(2006.01)I;G03F7/09(2006.01)I
专利有效期 用于无水胶印制版的底涂液,其制备方法及其应用 至用于无水胶印制版的底涂液,其制备方法及其应用 法律状态 实质审查的生效
说明书摘要 本发明提供一种用于无水胶印制版的底涂液,其制备方法及其应用。本发明的底涂液在无电解、阳极氧化处理的版基上涂布,实现版基与感光层的粘结,再在感光层上涂布硅橡胶层,利用感光层树脂亲墨、硅橡胶层硅橡胶斥墨的原理实现高精度印刷。本发明所述底涂液由5~50wt%聚合物、0.01~20wt%的金属附着力促进剂、0.01~20wt%防光晕的纳米颗粒及余量的溶剂组成。

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