专利详情

专利名称	光学波片厚度的测量仪
申请号	CN01274450.6	专利类型	实用新型
公开（公告）号	CN2515652	公开（授权）日	2002.10.09
申请（专利权）人	中国科学院上海光学精密机械研究所	发明（设计）人	欧阳斌;林礼煌;徐至展;张秉钧;莽燕萍
主分类号	G01B11/06	IPC主分类号	G01B11/06;G02B27/28
专利有效期	光学波片厚度的测量仪至光学波片厚度的测量仪	法律状态	授权
说明书摘要	一种光学波片厚度的测量仪,主要适用于测量光学晶体波片的厚度。包括含有支柱顶端的台顶,中间有支撑台, 低端有台座的检测台。台顶的通光孔中心与支撑台通光孔中心与台座的通光孔中心是一条垂直线,与置于台顶单色光源发射的光束经过起偏器、全反射镜,穿过待测波片、再经过检偏器至探测器的光路的光轴重合。计算机控制两个分别与置放待测波片的上转盘和置放检偏器的下转盘连接的步进电机。依据待测波片具有晶体双折射的特性,测得滞后角,获得待测波片的厚度。与在先技术相比,本实用新型的测量仪具有测量精度高,测量误差达到小于1微米。使用方便,操作简单可靠。