专利详情

专利名称	一种基于金属局域化效应的光刻方法
申请号	CN200710121245.X	专利类型	发明专利
公开（公告）号	CN101126900	公开（授权）日	2008.02.20
申请（专利权）人	中国科学院光电技术研究所	发明（设计）人	罗先刚;董小春;杜春雷;魏兴战;邓启凌
主分类号	G03F7/00(2006.01)I	IPC主分类号	G03F7/00(2006.01)I;B81C1/00(2006.01)I
专利有效期	一种基于金属局域化效应的光刻方法至一种基于金属局域化效应的光刻方法	法律状态	实质审查的生效
说明书摘要	一种基于金属局域化效应的光刻方法：(1)首先在玻璃表面制作金属结构；(2)将PDMS 预聚物倾倒于金属结构表面，并在30℃-90℃的高温环境中固化，取出冷却后，将已经固化的PDMS膜和金属结构从玻璃表面掀起，金属结构将嵌套于PDMS材料之中形成局域化光刻掩膜；(3)选择基底材料，并在基底表面涂覆光刻胶；(4)将PDMS局域化光刻掩模与基底表面的光刻胶紧密贴合；(5)采用垂直入射光照射光刻掩膜，曝光完成后，掀掉PDMS 模板；(6)对光刻胶进行显影，最后形成需要的光刻线条。本发明可以制备出特征尺寸小于50nm的结构，且制作工艺简单，不需要采用复杂的设备，制作效率高。