
光刻机投影物镜彗差原位检测系统及检测方法
- 申请号:CN200710045146.8
- 专利类型:发明专利
- 申请(专利权)人:中国科学院上海光学精密机械研究所
- 公开(公开)号:CN101109907
- 公开(公开)日:2008.01.23
- 法律状态:实质审查的生效
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专利详情
专利名称 | 光刻机投影物镜彗差原位检测系统及检测方法 | ||
申请号 | CN200710045146.8 | 专利类型 | 发明专利 |
公开(公告)号 | CN101109907 | 公开(授权)日 | 2008.01.23 |
申请(专利权)人 | 中国科学院上海光学精密机械研究所 | 发明(设计)人 | 袁琼雁;王向朝 |
主分类号 | G03F7/20(2006.01)I | IPC主分类号 | G03F7/20(2006.01)I;H01L21/027(2006.01)I |
专利有效期 | 光刻机投影物镜彗差原位检测系统及检测方法 至光刻机投影物镜彗差原位检测系统及检测方法 | 法律状态 | 实质审查的生效 |
说明书摘要 | 一种光刻机投影物镜彗差原位检测系统及检测方法。所述系统包括光源、照明 系统、测试掩模、掩模台、投影物镜、工件台、安装在所述工件台上的像传感装置 数据采集卡以及计算机。所述像传感装置包括孔径光阑、成像物镜、光电探测器。 所述测试掩模由两个互相垂直的线宽较小的移相光栅标记和两个互相垂直的线宽较 大的二元光栅标记组成。本发明彗差原位检测的方法,在不同的数值孔径和部分相 干因子设置下,通过像传感装置测量所述测试标记的相对成像位置偏移量,然后标 定所述投影物镜的彗差灵敏度系数,再利用彗差灵敏度系数计算得到所述投影物镜 的彗差。本发明的优点是可以消除畸变对成像位置偏移量的影响,提高了彗差检测 精度,缩短彗差检测时间。 |
交易流程
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专利 -
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确认专利
可交易 - 03 签订合同
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