专利详情

专利名称	一种悬架结构光刻胶的涂胶方法
申请号	CN201010144358.3	专利类型	发明专利
公开（公告）号	CN102213919A	公开（授权）日	2011.10.12
申请（专利权）人	中国科学院上海微系统与信息技术研究所	发明（设计）人	吴紫阳;杨恒;李昕欣;王跃林
主分类号	G03F7/16(2006.01)I	IPC主分类号	G03F7/16(2006.01)I
专利有效期	一种悬架结构光刻胶的涂胶方法至一种悬架结构光刻胶的涂胶方法	法律状态	实质审查的生效
说明书摘要	本发明涉及一种悬架结构光刻胶的涂胶方法，具有能够在沟槽、孔洞、微柱等结构上形成悬架结构，并用于光刻掩膜的特性。其具体步骤为：首先将少量一定浓度的光刻胶滴于极性溶液表面，使之在气-液界面自组装形成一定厚度的光刻胶膜，再将该光刻胶膜转移至已刻蚀出图形的半导体材料上，使之跨过沟槽和孔洞等形成悬架的光刻胶结构，之后对该光刻胶膜进行前烘、曝光、显影及后烘等步骤形成光刻图形。该光刻胶膜可实现刻蚀掩膜、牺牲层材料、胶保护等功能，其工艺过程简单、用料节省、成本低廉。