一种超临界水射流清洗设备
- 申请号：CN201010145225.8
- 专利类型：发明专利
- 申请（专利权）人：中国科学院微电子研究所
- 公开(公开)号：CN102211096A
- 公开(公开)日：2011.10.12
- 法律状态：实质审查的生效
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专利详情
| 专利名称 | 一种超临界水射流清洗设备 | ||
| 申请号 | CN201010145225.8 | 专利类型 | 发明专利 |
| 公开（公告）号 | CN102211096A | 公开（授权）日 | 2011.10.12 |
| 申请（专利权）人 | 中国科学院微电子研究所 | 发明（设计）人 | 高超群;景玉鹏 |
| 主分类号 | B08B3/08(2006.01)I | IPC主分类号 | B08B3/08(2006.01)I |
| 专利有效期 | 一种超临界水射流清洗设备 至一种超临界水射流清洗设备 | 法律状态 | 实质审查的生效 |
| 说明书摘要 | 本发明公开了一种超临界水射流清洗设备，用于硅片无损清洗。该设备包括超临界水射流生成装置、清洗室和清洗产物回收处理装置。本发明中超临界水以射流形式到达硅片，并在硅片表面形成超临界水恒温恒压微环境，利用超临界水的物理及化学性质，对硅片表面实施无损清洗。利用本发明，可对硅片表面的微细结构进行有效清洗，同时避免高压清洗腔的使用。 | ||
交易流程
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01
选取所需
专利 -
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可交易 - 03 签订合同
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成功 - 06 支付尾款
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过户资料
平台保障
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