
一种改进型的电弧等离子体喷涂涂层及其制备方法
- 申请号:CN200710042289.3
- 专利类型:发明专利
- 申请(专利权)人:中国科学院上海硅酸盐研究所
- 公开(公开)号:CN101073676
- 公开(公开)日:2007.11.21
- 法律状态:实质审查的生效
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专利详情
专利名称 | 一种改进型的电弧等离子体喷涂涂层及其制备方法 | ||
申请号 | CN200710042289.3 | 专利类型 | 发明专利 |
公开(公告)号 | CN101073676 | 公开(授权)日 | 2007.11.21 |
申请(专利权)人 | 中国科学院上海硅酸盐研究所 | 发明(设计)人 | 谢有桃;郑学斌;季珩;丁传贤 |
主分类号 | A61L27/30(2006.01) | IPC主分类号 | A61L27/30(2006.01);A61L31/08(2006.01);C23C4/06(2006.01) |
专利有效期 | 一种改进型的电弧等离子体喷涂涂层及其制备方法 至一种改进型的电弧等离子体喷涂涂层及其制备方法 | 法律状态 | 实质审查的生效 |
说明书摘要 | 本发明提供一种改进型的电弧等离子体喷涂涂层及其制备方法,其特征在于所述的涂层是由质量比为60~70∶40~30的粗钛颗粒和细钛粉末组成,细钛粉末包裹粗钛颗粒。所述的粗钛颗粒粒径为150-280μm;所述的细钛粉末的粒径为10-35μm。制备的涂层表面粗糙度Ra为25-35μm,孔隙率为28%-37%,表面含有大量孔径大于100μm的孔隙。所提供的涂层由真空等离子体喷涂方法制备。 |
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