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一种改进型的电弧等离子体喷涂涂层及其制备方法

  • 申请号:CN200710042289.3
  • 专利类型:发明专利
  • 申请(专利权)人:中国科学院上海硅酸盐研究所
  • 公开(公开)号:CN101073676
  • 公开(公开)日:2007.11.21
  • 法律状态:实质审查的生效
  • 出售价格: 面议
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专利详情

专利名称 一种改进型的电弧等离子体喷涂涂层及其制备方法
申请号 CN200710042289.3 专利类型 发明专利
公开(公告)号 CN101073676 公开(授权)日 2007.11.21
申请(专利权)人 中国科学院上海硅酸盐研究所 发明(设计)人 谢有桃;郑学斌;季珩;丁传贤
主分类号 A61L27/30(2006.01) IPC主分类号 A61L27/30(2006.01);A61L31/08(2006.01);C23C4/06(2006.01)
专利有效期 一种改进型的电弧等离子体喷涂涂层及其制备方法 至一种改进型的电弧等离子体喷涂涂层及其制备方法 法律状态 实质审查的生效
说明书摘要 本发明提供一种改进型的电弧等离子体喷涂涂层及其制备方法,其特征在于所述的涂层是由质量比为60~70∶40~30的粗钛颗粒和细钛粉末组成,细钛粉末包裹粗钛颗粒。所述的粗钛颗粒粒径为150-280μm;所述的细钛粉末的粒径为10-35μm。制备的涂层表面粗糙度Ra为25-35μm,孔隙率为28%-37%,表面含有大量孔径大于100μm的孔隙。所提供的涂层由真空等离子体喷涂方法制备。

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