
GaAs/AlGaAs/InGaAs双色焦平面探测器
- 申请号:CN200710040613.8
- 专利类型:发明专利
- 申请(专利权)人:中国科学院上海技术物理研究所
- 公开(公开)号:CN101055882
- 公开(公开)日:2007.10.17
- 法律状态:实质审查的生效
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专利详情
专利名称 | GaAs/AlGaAs/InGaAs双色焦平面探测器 | ||
申请号 | CN200710040613.8 | 专利类型 | 发明专利 |
公开(公告)号 | CN101055882 | 公开(授权)日 | 2007.10.17 |
申请(专利权)人 | 中国科学院上海技术物理研究所 | 发明(设计)人 | 陆卫;熊大元;李宁;甄红楼;张波;陈平平;李天信;李志锋;陈效双 |
主分类号 | H01L27/144(2006.01) | IPC主分类号 | H01L27/144(2006.01);H01L31/111(2006.01) |
专利有效期 | GaAs/AlGaAs/InGaAs双色焦平面探测器 至GaAs/AlGaAs/InGaAs双色焦平面探测器 | 法律状态 | 实质审查的生效 |
说明书摘要 | 本发明公开了一种GaAs/AlGaAs/InGaAs双色量子阱红外焦平面探测器,该器件采用GaAs基材料,交替生长AlGaAs势垒/GaAs量子阱/AlGaAs势垒/InGaAs量子阱/AlGaAs势垒,利用GaAs量子阱中的子带间跃迁形成长波波段的探测,利用InGaAs量子阱中的子带间跃迁形成中波波段的探测。对长波探测的GaAs量子阱,AlGaAs/InGaAs/AlGaAs层构成GaAs量子阱的势垒;对中波探测的InGaAs量子阱,AlGaAs/GaAs/AlGaAs层又构成了InGaAs量子阱的势垒,并且使AlGaAs/InGaAs/AlGaAs层的总厚度和AlGaAs/GaAs/AlGaAs层的总厚度为常规量子阱红外探测器中的一个势垒厚度,除掉了由于厚度增加使得器件的光电耦合效率下降的因素。在光电耦合方式中采用优化的二维双周期衍射光栅,在光栅刻蚀工艺中采用难度较小的浅深度刻蚀法。 |
交易流程
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01
选取所需
专利 -
02
确认专利
可交易 - 03 签订合同
- 04 上报材料
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05
确认变更
成功 - 06 支付尾款
- 07 交付证书
过户资料
平台保障
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