
宽波长高反射率耐污染胶体光子晶体漫反射膜的用途
- 申请号:CN200610011451.0
- 专利类型:发明专利
- 申请(专利权)人:中国科学院化学研究所
- 公开(公开)号:CN101034169
- 公开(公开)日:2007.09.12
- 法律状态:实质审查的生效
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专利详情
专利名称 | 宽波长高反射率耐污染胶体光子晶体漫反射膜的用途 | ||
申请号 | CN200610011451.0 | 专利类型 | 发明专利 |
公开(公告)号 | CN101034169 | 公开(授权)日 | 2007.09.12 |
申请(专利权)人 | 中国科学院化学研究所 | 发明(设计)人 | 胡俊平;宋延林;梁杰;王京霞;江雷 |
主分类号 | G02B5/02(2006.01) | IPC主分类号 | G02B5/02(2006.01);C08J5/18(2006.01) |
专利有效期 | 宽波长高反射率耐污染胶体光子晶体漫反射膜的用途 至宽波长高反射率耐污染胶体光子晶体漫反射膜的用途 | 法律状态 | 实质审查的生效 |
说明书摘要 | 本发明属于光学材料领域,特别涉及宽波长高反射率耐污染胶体光子晶体漫反射膜的用途。所述的膜用于提高光能传输性能的激光装置的壳体,用于投影屏、公路指示牌、电子设备的显示器、发光照明装置的背光单元以及太阳能收集器;所述的膜是由具有硬核-软壳结构的单分散聚合物乳胶粒堆砌而成的,乳胶粒的粒径是800nm~1200nm,优选为1100~1200nm。所述的膜是利用单分散聚合物乳胶粒材料自身规整排列所形成的周期结构来做漫反射的表面结构单元,达到增加表面粗糙度、减少光耦合的作用,实现制备全可见光区以及近红外光区的高反射效率、均匀反射、耐污染、耐磨损的漫反射薄膜。 |
交易流程
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专利 -
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